正相涂敷型固定相

Chiral ND,ND(2), NQ(2),NS(2),NT(2),NX(2), NY(2),NZ(2), MB(2), MC(2), MF(2), MG(2), MD,MD(2),MJ(2),MQ(2),MX(2), MZ(2)

正相鍵合型固定相

Chiral INA, INB, INC, INJ

反相涂敷型固定相

Chiral ND(2)-RH, NQ(2)-RH, NS(2)-RH,NX(2)-RH, NY(2)-RH,NZ(2)-RH,MD(2)-RH, MJ(2)-RH,MQ(2)-RH,MX(2)-RH, MZ(2)-RH

酸性樣品

堿性樣品

常規(guī)一般使用

三氟乙酸，甲酸

(0.1%-0.5%)

二乙胺

(0.1%-0.5%)

考慮繼續(xù)調整峰形使用

甲磺酸

(0.1%)

三乙胺、乙醇胺、正丁胺

(0.1%-0.5%)

特別需要時，酸性與堿性添加劑可以同時添加，建議各 0.1%

添加劑適合正相以及 SFC 超臨界流體，以及反相（反相應用時，建議 0.05%-0.1%）

１

2

起始條件

HEX:IPA=80:20

HEX:EtOH=80:20

調整范圍

HEX 99%至 50%之間

HEX 99%至 50%之間

HEX:正己烷，IPA:異丙醇，EtOH:無水乙醇

HEX 比例增加，保留時間會變長

IPA 與 EtOH 一般比例不超過 50%，遇到極性特別大的樣品，允許最高至 95%，正常

情況控制在 50%以下

起始柱溫為 25℃，起始流速建議在 0.8ml/min 左右。有條件的情況下，溫度在 5-25℃ 內調整，對分離度可能產(chǎn)生大的影響。溫度低有時利于拆分，溫度高，出峰快，峰形

可能更尖銳

Chiral MF(2), Chiral MG(2)流動相中不能用乙醇

正相涂敷型手性固定相不能接觸下列溶劑：甲基叔丁基醚(MtBE)，二氯甲烷(DCM)，

四氫呋喃(THF)，乙酸乙酯(EtOAc)，氯仿(CHCl3)，丙酮等

１

２

起始條件

HEX:IPA=80:20

HEX:EtOH=80:20

調整范圍

HEX 99%至 50%之間

HEX 99%至 50%之間

3

4

起始條件

MtBE:EtOH=98:2

HEX:DCM=50:50

調整范圍

MtBE 98%至 60%之間

HEX 85%至 50%之間

5

6

起始條件

HEX:THF=70:30

HEX:EtOAc=50:50

調整范圍

HEX 99%至 70%之間

HEX 99%至 50%之間

7

8

起始條件

HEX:CHCl3=30:70

ACN:IPA(或 MeOH)＝100:0

調整范圍

HEX 60%至 100%之間

ACN 100%至 90%之間

HEX 比例增加，保留時間會變長

除了上述溶劑，溶解與洗脫的必要性下，丙酮以及 1,4 二氧六環(huán)也可使用

起始柱溫為 25℃，起始流速建議在 0.8ml/min 左右。有條件的情況下，溫度在 5-25℃ 內調整，對分離度可能產(chǎn)生大的影響。溫度低有時利于拆分，溫度高，出峰快，峰形

可能更尖銳

酸性及兩性化合物

堿性化合物

中性化合物

水相 40%

0.1%甲酸水

0.1% TFA

水

0.1% TFA 水

PH=2 100mM 高

氯酸鈉水溶液

PH=2.5 50mM 磷酸

緩沖鹽

PH=2.5 100mM 六

氟磷酸鉀水溶液

0.1%磷酸水

20mM 碳酸氫銨水

溶液（PH=9）

PH=2 100mM 高 氯

酸鈉水溶液

20mM 碳酸氫銨水溶液（PH=9），含0.1% DEA

PH=2 100mM 六 氟

磷酸鉀水溶液

有機相 60%

ACN, MeOH, IPA

常規(guī)清洗

HEX:IPA=80:20 0.4ml/min 1-2 小時并直接保存

柱效下降，峰形不正常時可能的特殊殘留物清洗，再生

酸性殘留

堿性殘留物

性質不確定的殘留物

EtOH(0.1% DEA)

0.2ml/min 2 小 時

EtOH(0.1% TFA)

0.2ml/min 2 小 時

第 1 步 EtOH(0.1% TFA)

0.2ml/min 2 小 時

第 2 步 EtOH(0.1% DEA)

0.2ml/min 2 小 時

清洗完畢后，再用 HEX:IPA=80:20 0.4ml/min 1 小時，并按 COA 測試后直接保存

EtOH 不適用于 Chiral MF(2)與 Chiral MG(2)固定相。Chiral INB, INC 可用 EtOAc 再生

說明：如果是柱頭堵塞與污染，可以 0.2ml/min 流速倒沖

常規(guī)清洗

ACN:H2O=10:90 0.5ml/min 1 小時，ACN:H2O=90:10 0.5ml/min 1 小時,保存于

ACN:H2O=75:25（或 60:40）體系中

柱效，柱壓，峰形問題時，特殊殘留物的清洗，再生

第１步：MeOH:H2O=10:90(含 0.1% TFA ) 0.2ml/min 1 小時

第２步：MeOH:H2O=90:10(含 0.1% TFA ) 0.2ml/min 1 小時

第３步：MeOH:H2O=99:1(含 0.1% TFA ) 0.2ml/min 2 小時

第 4 步：ACN:H2O=75:25 0.5ml/min 30 分鐘，并按 COA 測試后直接保存

說明：如果是柱頭堵塞與污染，可以 0.2ml/min 流速倒沖

所有正，反相手性柱啟用時，建議流動相下 0.2ml/min 流速先運行 10 分鐘，再提升到

0.5ml/min 流速運行 5 分鐘，再提升到需要運行的流速

正相涂敷型與鍵合型手性柱，都可以在正相體系，SFC 體系(甲醇與液態(tài)二氧化碳體系) 以及 PO 極性體系（純 ACN 或純 MeOH 為流動相，或者含 5%的 IPA）切換使用。從一種體系切換到另一種體系時，需用 20 倍柱體積的 IPA 以 0.2ml/min 沖洗以切換。按

250*4.6mm 柱計算，20 倍柱體積約 50ml

鍵合型手性柱，出廠在正相體系中，如果要轉化為反相柱使用，需用 20 倍柱體積的

IPA 以 0.2ml/min 沖洗后，再用反相體系沖洗轉化為反相柱，之后按反相柱的操作進

行。一旦轉化為反相手性柱，則不能再切換回正相